Новостной портал photonica.proПерейти на старую версию сайта

Категория

  • Оптика и фотоника
  • ВЧ и СВЧ компоненты
  • Активные компоненты
  • Системы отображения информации
0
Избранное
0
связаться с нами

Менисковые линзы

Описание

  • Описания
  • Характеристики
  • Опции для заказа

Данные:

Материал: BK7, FS, UVFS, CaF2, ZnSe
Допуск по диаметру: +0/-0.1 мм
Допуск по толщине: ±0.5 мм
Световой диаметр: > 90 %
Допуск по радиусу кривизны: ±1 %
Рабочая длина волны: 632.8 нм
Качество обработки поверхности: 40-20 S-D
Чистота поверхности: < λ/4 при 632.8 нм
Ошибка центрирования: < 3 дуговых минут
Защитные фаски: < 0,25 мм x 45°

Менисковые линзы обладают двумя кривообразными поверхностями, одна из которых является выпуклой, а другая - вогнутой, поэтому данные линзы также называют выпукло-вогнутыми. Радиусы кривизны обоих сторон могут быть различны и не зависят друг от друга. Менисковые линзы применяются в тех оптических системах, в которых необходимо минимизировать аберрацию, например в фокусирующих устройствах со многими линзами, где они помогают минимизировать фокусное пятно луча. Того же эффекта можно добиться в коллиматорах.

Другим достоинством менисковых линз является тот факт, что их конструкция позволяет увеличить фокусное расстояние по сравнению с плоско- выпуклыми линзами. Менисковые линзы с поверхностями одинакового радиуса кривизны могут служить подложкой в резонаторных зеркалах.

Особенности

  • Минимизируют сферическую аберрацию
  • Улучшают качество изображения
  • Уменьшают размер пятна

Компания «ОЭС Спецпоставка» является официальным дистрибьютором компании Altechna на территории Российской Федерации и стран Таможенного Союза, и предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции, полную техническую поддержку, а также поставку образцов.

 

Основные характеристики

Материал: BK7, FS, UVFS, CaF2, ZnSe
Допуск по диаметру: +0/-0.1 мм
Допуск по толщине: ±0.5 мм
Световой диаметр: > 90 %
Допуск по радиусу кривизны: ±1 %
Рабочая длина волны: 632.8 нм
Качество обработки поверхности: 40-20 S-D
Чистота поверхности: < λ/4 при 632.8 нм
Ошибка центрирования: < 3 дуговых минут
Защитные фаски: < 0,25 мм x 45°
Покрытие: По запросу

Для данного продукта каталог отсутствует. Пожалуйста, свяжитесь с нами